白光干涉儀
特點
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共焦顯微鏡白光干涉儀
優勢:
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應用領域
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光學表面的快速和精確粗糙度測量 白光干涉評估:
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MarSurf CWM100技術數據
光源 |
505納米高性能光源 |
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相機 |
CCD 780 x580像素,達到48/s,1MP和更多像素 |
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重復性Z, RMS |
nm,以100 nm的標準 |
≤ 0,7 |
Z方向的準確性 |
% |
≤ 3 |
X/Y的精度 |
um |
≤ 0,25 |
Ra的粗糙度 |
nm |
0,6 , (2 sigma) |
Rq的粗糙度 |
nm |
0,8 , (2 sigma) |
Sa的粗糙度 |
nm |
1,2 , (2 sigma) |
x/y |
≤ 2µm/10 mm. |
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平面度 |
≤ 150 µrad (0.30 µm/2 mm, 0.75 µm/5 mm) |
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測量準則 |
WLI -白色光干涉儀 |
KFM - 共焦顯微鏡 |
測量范圍 |
超過 4 mm (根據鏡頭) |
10 mm (取決于z和透鏡的分辨率) |